Renishaw光學(xué)尺 精密測控利器

                                      受惠AI、5G和物聯(lián)網(wǎng)等新技術(shù)的迅速發(fā)展，半導(dǎo)體需求不斷擴(kuò)大，設(shè)備商紛紛加大投入開發(fā)新機(jī)型以應(yīng)對精密先進(jìn)制程的挑戰(zhàn)；半導(dǎo)體制造核心設(shè)備包括光刻機(jī)雙工件臺、晶圓級鍵合設(shè)備、雷射退火先進(jìn)設(shè)備和EFEM等，設(shè)計(jì)精密，無論對核心零件的規(guī)格或測控穩(wěn)定性都有極嚴(yán)謹(jǐn)?shù)囊蟆?/p>

                                      北京華卓精科是中國從事精密制程核心設(shè)備的領(lǐng)導(dǎo)者，開發(fā)的半導(dǎo)體設(shè)備和運(yùn)動平臺採用Renishaw多款高性能光學(xué)尺系統(tǒng)，例如平臺以線性馬達(dá)驅(qū)動，配置TONiC?系列光學(xué)尺系統(tǒng)，通過Ti介面輸出奈米級解析度訊號；除了半導(dǎo)體制程應(yīng)用，平臺也設(shè)計(jì)用于顯示面板、玻璃切割、三維成像等；其他包括晶圓級鍵合設(shè)備、雷射退火先進(jìn)設(shè)備等整機(jī)設(shè)備，均配置Renishaw光學(xué)尺系統(tǒng)。

                                      TONiC?系列是一款高性能增量式光學(xué)尺系統(tǒng)，可因應(yīng)設(shè)備基體材料選配不同特性的光學(xué)尺。與Ti訊號細(xì)分介面配套使用時，在線性和旋轉(zhuǎn)應(yīng)用中解析度可達(dá)1nm，而光學(xué)尺工作速度在0.1 μm解析度時可達(dá)3.6 m／s；由于安裝公差寬鬆，而TONiC的動態(tài)訊號處理功能可提高訊號穩(wěn)定性，電子細(xì)分誤差更低于±30nm。

                                      在溫度影響下，設(shè)備許多零件的長度會因熱膨脹效應(yīng)發(fā)生變化，光學(xué)尺也不例外；華卓精科採用的TONiC?系列光學(xué)尺多配置RGSZ20S鋼帶尺系列，是屬于基材固定式光學(xué)尺，厚度僅0.1mm，意味光學(xué)尺固定在基體上，在溫度變化時會隨基體膨脹或收縮；華卓精科的運(yùn)動平臺多數(shù)以花崗巖為基體，這種材料具有低膨脹係數(shù)，短時間內(nèi)的溫度變化不會導(dǎo)致基體出現(xiàn)大幅度膨脹或收縮。

                                     華卓精科總經(jīng)理孫國華指出，光學(xué)尺作為平臺和設(shè)備最關(guān)鍵的零件，該公司經(jīng)過全面評估后才選擇Renishaw；他強(qiáng)調(diào)，Renishaw光學(xué)尺產(chǎn)品的多樣性和穩(wěn)定性能是重要因素，規(guī)格十分貼近市場需求，與該公司的產(chǎn)品定位十分匹配。

                                      Renishaw參加明（21）日登場的臺北自動化工業(yè)展，歡迎蒞臨南港展覽館1館1樓I908攤位參觀