下世代EUV設(shè)備 本月進(jìn)駐

                                        業(yè)界傳出，臺積電首臺下世代高數(shù)值孔徑極紫外光微影設(shè)備（High-NA EUV）本月將進(jìn)機(jī)，持續(xù)領(lǐng)先三星的交機(jī)進(jìn)度，有助臺積電持續(xù)衝刺新世代先進(jìn)制程。

                                        對于相關(guān)傳聞，艾司摩爾昨（9）日不評論單一客戶。臺積電不回應(yīng)市場傳聞。

                                        業(yè)界盛傳，臺積電首臺High-NA EUV本月將進(jìn)機(jī)，預(yù)計移入臺積電全球研發(fā)中心，作為研發(fā)使用，進(jìn)而應(yīng)對后續(xù)A14等先進(jìn)制程開發(fā)需求。

                                        至于價格方面，外傳臺積電總裁魏哲家親自出馬議價有成，在購買新機(jī)配售舊款產(chǎn)品之下，整體報價估可減少近二成。

                                        據(jù)了解，高數(shù)值孔徑極紫外光微影設(shè)備報價逾4億歐元，因光鏡頭鏡片無法分拆入廠，高度比一間會議室還高、長度也遠(yuǎn)超前一代設(shè)備，因規(guī)格特殊且精密，恐須機(jī)場或港口聯(lián)通的高速公路交管或特定路線于深夜運送入廠，以避免交通不順。

                                        據(jù)統(tǒng)計，臺積電目前是全球最大極紫外光微影系統(tǒng)設(shè)備持有者，估計占全球EUV晶圓設(shè)備產(chǎn)出65%，也是率先將EUV設(shè)備導(dǎo)入7奈米制程的廠商。

                                        艾司摩爾已獲得所有極紫外光微影（EUV）設(shè)備客戶下單下世代產(chǎn)品。ASML High NA EUV產(chǎn)品管理副總裁Greet Storms日前受訪提到，“ASML持續(xù)推進(jìn)新的技術(shù)，并獲得每個EUV客戶在研發(fā)階段青睞，這些也都是我們High-NA客戶，也都有下單給我們，2026年希望是往量產(chǎn)方向推進(jìn)”，不過仍看客戶制程成本等總體考量。

                                        艾司摩爾先前曾證實，今年底前將向臺積電交付最新的High-NA EUV。艾司摩爾強(qiáng)調(diào)，下世代極紫外光微影設(shè)備已于去年底開始陸續(xù)出貨，產(chǎn)能預(yù)計每小時可曝光超過185片晶圓，將支援2奈米以下邏輯晶片及具有相似電晶體密度的記憶體晶片量產(chǎn)。