訂單排到2025年 臺(tái)積N3發(fā)功 供應(yīng)鏈旺到明年

                    臺(tái)積先進(jìn)制程維持強(qiáng)勁需求，蘋(píng)果、高通、輝達(dá)和AMD等科技大廠幾乎全包下臺(tái)積電3奈米的產(chǎn)能，訂單甚至排到2025年，市場(chǎng)看好相關(guān)供應(yīng)鏈營(yíng)運(yùn)將一路看旺，包括家登極紫外光光罩盒、鑽石碟中砂、半導(dǎo)體靶材光洋科、晶圓真空吸盤(pán)的意德士及濾能等，營(yíng)運(yùn)都將受惠。

                    半導(dǎo)體業(yè)者指出，臺(tái)積電2025年先進(jìn)制程代工價(jià)調(diào)整有望上看雙位數(shù)漲幅，董事長(zhǎng)魏哲家日前表示，晶圓產(chǎn)品訂價(jià)是具有策略性，對(duì)每種產(chǎn)品有不一樣的價(jià)值，目前與客戶價(jià)格訂定進(jìn)度“So far so good”，有信心于價(jià)格及產(chǎn)能之間取得平衡。

                    外媒報(bào)導(dǎo)，包括蘋(píng)果即將推出的A18 Pro SoC，還有輝達(dá)下一代的“Rubin”架構(gòu)在內(nèi)，都廣泛採(cǎi)用3奈米制程，也造成其產(chǎn)量供不應(yīng)求。市場(chǎng)積極導(dǎo)入臺(tái)積電3奈米制程的消息傳出后，臺(tái)積電3奈米供應(yīng)鏈也受到市場(chǎng)矚目，并看好明年?duì)I運(yùn)可望受到推升。

                    供應(yīng)鏈家登在EUV（極紫外光）光罩盒市占率達(dá)約7成，EUV微影技術(shù)已成先進(jìn)制程標(biāo)配，業(yè)內(nèi)分析，臺(tái)積電從7+制程開(kāi)始導(dǎo)入EUV技術(shù)，跨入新一制程世代，每片晶圓所採(cǎi)用的EUV光罩層數(shù)也越來(lái)越多，看好家登將持續(xù)受惠。

                    在半導(dǎo)體靶材部分，過(guò)去臺(tái)積電均使用國(guó)際大廠產(chǎn)品，但在積極推動(dòng)設(shè)備及耗材國(guó)產(chǎn)化之后，光洋科去年打入臺(tái)積電先進(jìn)制程7奈米供應(yīng)鏈之后，亦躋進(jìn)3奈米靶材供應(yīng)商。光洋科打入半導(dǎo)體前段制程，半導(dǎo)體靶材去年?duì)I收比重達(dá)4％，今年估達(dá)10％，2026年目標(biāo)再翻倍至20％。

                    意德士則是前段制程零組件供應(yīng)商，主要提供真空吸盤(pán)曝光載臺(tái)，搭載在 EUV 設(shè)備上，由于現(xiàn)今隨著制程推進(jìn)至3奈米，晶圓薄度越來(lái)越薄，真空吸盤(pán)扮演提高良率的要角，意德士明年?duì)I運(yùn)也可望優(yōu)于今年表現(xiàn)。

                    濾能主力產(chǎn)品抽取式濾網(wǎng)及提供微污染（AMC）防治服務(wù)，透過(guò)濾網(wǎng)的材料研發(fā)創(chuàng)新，防止空氣中看不見(jiàn)的氣體分子飄落，是成本控制及良率提升的關(guān)鍵耗材，在國(guó)內(nèi)先進(jìn)制程的市佔(zhàn)率已超過(guò)5成，明年?duì)I運(yùn)同樣受惠。

                   中砂生產(chǎn)再生晶圓及鑽石碟產(chǎn)品，其中高規(guī)格鑽石碟新品，獲得大客戶連續(xù)性及擴(kuò)大採(cǎi)用，在3奈米市占率達(dá)到7成以上，法人預(yù)期，隨大客戶3奈米產(chǎn)能逐步達(dá)到滿載，明年起業(yè)績(jī)動(dòng)能可望較今年顯著增強(qiáng)。